納米壓印系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述：v兼容基底尺寸：直徑≤100mmv支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等v納米壓印技術(shù)：旋涂膠基底高精度壓印點(diǎn)膠自動(dòng)找平壓印、旋涂膠基底壓印、點(diǎn)膠自動(dòng)找平壓印模式v壓印精度：優(yōu)于10nmv結(jié)構(gòu)深寬比：優(yōu)于10：1v殘余層控制：可小于10nm微米級(jí)TTV控制精度v紫外固化光源：紫外LED（365nm）面光源

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2024-10-22

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詳細(xì)介紹

v 兼容基底尺寸：直徑≤100mm

v 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等

v 納米壓印技術(shù)：旋涂膠基底高精度壓印&點(diǎn)膠自動(dòng)找平壓印、旋涂膠基底壓印、點(diǎn)膠自動(dòng)找平壓印模式

v 壓印精度：優(yōu)于10nm

v 結(jié)構(gòu)深寬比：優(yōu)于10：1

v 殘余層控制：可小于10nm 微米級(jí)TTV控制精度

v 紫外固化光源：紫外LED（365nm）面光源，光強(qiáng)>300mW/cm2

v 自動(dòng)壓印/自動(dòng)脫模/自動(dòng)工作模具復(fù)制/主動(dòng)找平壓印/模自動(dòng)點(diǎn)膠：支持

v 模具基底對(duì)位系統(tǒng)：手動(dòng)對(duì)位（選配）

v 上下片方式：手動(dòng)上下片

v 隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)、微透鏡陣列、勻光片結(jié)構(gòu)等工藝流程，幫助客戶零門檻達(dá)到的納米壓印水平

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